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Apple의 AR glass를 분야의 예시로, PatentPia GoldenCompass를 활용한 인용 관련 콘텐츠를 제공합니다. 위 활용 지도의 각 항목에 결합되어 있는 사슬(링크) 표시를 클릭하면, 예시 화면이 새 창으로 열립니다.
개별 특허 데이터에는, 논문과 마찬가지로, 그 특허에 대한 레퍼런스(backward citation) 문헌 번호가 포함되어 있습니다. 레퍼런스 데이터를 인용 데이터라고 합니다.
인용 방향에는 i) 자신이 인용하는 선행 레퍼런스 문헌으로 구성되는 전방 인용(backward citation) 문헌과, ii) 자신을 레퍼런스로 인용하고 있는 후행 피인용 문헌이 있습니다.
P1 특허의 레퍼런스에 선행 문헌인 P01, P02가 있는 경우, P01 및 P02는 P1의 레퍼런스/전방 인용(backward citation)가 됩니다. 한편, P2의 레퍼런스에 P1이 있는 경우, P2는 P1의 후방 피인용 문헌이 됩니다.
인용(레퍼런스)의 발생 원인은, i) 출원인에 의한 IDS, ii) 심사관에 의한 인용, ii) 심사관 OA(office action) 과정에서의 인용, iv) 문헌 내 인용, v) 특허청에 의한 선행 기술 조사에 의한 인용 등 크게 5가지가 있습니다. 미국 특허에서는 i) ~ iv)가 발생합니다.
자기 특허와, 자기 특허의 레퍼런스의 권리자가 일치하는 경우를 자기 인용(self reference)라고 합니다.
P1의 레퍼런스 특허 P0, P1의 피인용 특허 P2가 모두 자기 인용 관계에 있다면(P2는 P1을 인용(레퍼런싱)하고, P1은 P0를 인용하고 있음), P0, P1, P2는 서로 기술적 관련성이 높다고 볼 수 있습니다. 기술적 관련성 높으면서도, 시간적으로 순차적으로 이격되어 있는 특허셋은 R&D 연속성과 밀접하게 관련이 있습니다. 즉, P1는 P0의 개량-개선-연장-확장-응용-연결 관계에 있는 기술을 포함하고 있을 가능성이 높으며, P2는 P1의 개량-개선-연장-확장-응용-연결 관계에 있는 기술을 포함하고 있을 가능성이 높기 때문입니다.
self reference 또는 self forward citation 관계에 있는 특허셋은 R&D 연속성(R&D continuity)이 높게 되고, R&D 연속성이 높은 특허셋은 통상적으로 기업의 제품에 반영되는 경우가 많습니다. 특허 중에서 제품에 강하게 반영되는 특허가 중요한 특허라고 볼 수 있습니다. Self reference/self forward citation 관계가 강한 특허는 국내 및 해외 특허 패밀리가 많은 특허와 더불어, 기업의 제품 전략에 반영된 특허를 추정해 내는데 사용될 수 있습니다.
특정 특허(P1)의 인용(레퍼런스) 특허(P0)는 타국의 특허도 될 수 있습니다. 이 경우, 타국의 특허(P0) 입장에서는 자국이 아닌 후출원 특허(P1)에 의해서 인용을 받았다고 볼 수 있습니다. 이와 같인 인용(레퍼런스)-피인용 특허의 국가(특허청)가 다른 경우, 해외 인용(레퍼런스)-피인용이라고 합니다.